Näytetään tulokset 1 - 10 / 101
tulosta / sivu
Mitä julkaisutietoja palvelu sisältää?
Julkaisun nimi
Tekijät
Julkaisukanava
Vuosi
 Julkaisujen tiedon ikoni

Ohutkalvoyhteistyötä Jyväskylässä

Avoin saatavuus
Alakoski, Esa
Keski-Suomen insinööri : Keski-Suomen insinöörit ry:n jäsenlehti2020 Julkaisujen tiedon ikoni

Domain wall induced modulation of low field H-T phase diagram in patterned superconductor-ferromagnet stripes

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.1063/1.5087925
Bhatia, Ekta; Barber, Zoe H.; Maasilta, Ilari; Senapati, Kartik
AIP Advances2019 Julkaisujen tiedon ikoni

Atomic layer deposition of Ti-Nb-O thin films onto electrospun fibers for fibrous and tubular catalyst support structures

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.1116/1.4999826
Putkonen, Matti; Heikkilä, Pirjo; Pasanen, Antti T.; Rautkoski, Hille; Svärd, Laura; Simell, Pekka; ...
Journal of vacuum science and technology a2018 Julkaisujen tiedon ikoni

Energy of dendritic avalanches in thin-film superconductors

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.1063/1.5045682
Qureishy, T.; Vestgården, J. I.; Qviller, A. J.; Fjellvåg, A. S.; Meckbach, J. M.; Torgovkin, Andrii...
AIP Advances2018 Julkaisujen tiedon ikoni

Patterning of supported gold monolayers via chemical lift-off lithography

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.3762/bjnano.8.265
Slaughter, Liane S.; Cheung, Kevin M.; Kaappa, Sami; Cao, Huan H.; Yang, Qing; Young, Thomas D.; Ser...
Beilstein Journal of Nanotechnology2017 Julkaisujen tiedon ikoni

Low temperature atomic layer deposition of noble metals using ozone and molecular hydrogen as reactants

Vertaisarvioitu
DOI
10.1016/j.tsf.2013.01.091
Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Thin solid films2013 Julkaisujen tiedon ikoni

Atomic Layer Deposition of LiF Thin Films from Lithd, Mg(thd)(2), and TiF4 Precursors

Vertaisarvioitu
DOI
10.1021/cm400046w
Mäntymäki, Miia; Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Chemistry of materials2013 Julkaisujen tiedon ikoni

RBS and PIXE analysis of chlorine contamination in ALD-Grown TiN films on silicon

Vertaisarvioitu
DOI
10.1063/1.4802317
Meersschaut, J.; Käyhkö, Marko; Lenka, H.P.; Witters, T.; Zhao, Q.; Vantomme, A.; Vandervorst, W.
AIP Conference Proceedings2013 Julkaisujen tiedon ikoni

Infrared Pulsed Laser Deposition of Niobium Nitride Thin Films

Vertaisarvioitu
DOI
10.1109/TASC.2010.2081656
Chaudhuri, Saumyadip; Nevala, Minna; Hakkarainen, T.; Niemi, T.; Maasilta, Ilari
IEEE transactions on applied superconductivity2011 Julkaisujen tiedon ikoni

Atomic layer deposition of ternary ruthenates by combining metalorganic precursors with RuO4 as the co-reactant

Vertaisarvioitu
DOI
10.1039/D1DT03543F
Minjauw, Matthias M.; Feng, Ji-Yu; Sajavaara, Timo; Detavernier, Christophe; Dendooven, Jolien
Dalton Transactions2022

Ohutkalvoyhteistyötä Jyväskylässä

Avoin saatavuus
2020

Domain wall induced modulation of low field H-T phase diagram in patterned superconductor-ferromagnet stripes

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.1063/1.5087925
2019

Atomic layer deposition of Ti-Nb-O thin films onto electrospun fibers for fibrous and tubular catalyst support structures

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.1116/1.4999826
2018

Energy of dendritic avalanches in thin-film superconductors

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.1063/1.5045682
2018

Patterning of supported gold monolayers via chemical lift-off lithography

Vertaisarvioitu
Avoin saatavuus
DOI
10.3762/bjnano.8.265
2017

Low temperature atomic layer deposition of noble metals using ozone and molecular hydrogen as reactants

Vertaisarvioitu
DOI
10.1016/j.tsf.2013.01.091
2013

Atomic Layer Deposition of LiF Thin Films from Lithd, Mg(thd)(2), and TiF4 Precursors

Vertaisarvioitu
DOI
10.1021/cm400046w
2013

RBS and PIXE analysis of chlorine contamination in ALD-Grown TiN films on silicon

Vertaisarvioitu
DOI
10.1063/1.4802317
2013

Infrared Pulsed Laser Deposition of Niobium Nitride Thin Films

Vertaisarvioitu
DOI
10.1109/TASC.2010.2081656
2011

Atomic layer deposition of ternary ruthenates by combining metalorganic precursors with RuO4 as the co-reactant

Vertaisarvioitu
DOI
10.1039/D1DT03543F
2022