RBS and PIXE analysis of chlorine contamination in ALD-Grown TiN films on silicon
Julkaisuvuosi
2013
Tekijät
Meersschaut, J.; Käyhkö, Marko; Lenka, H.P.; Witters, T.; Zhao, Q.; Vantomme, A.; Vandervorst, W.
Organisaatiot ja tekijät
Jyväskylän yliopisto
Käyhkö Marko 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A4 Artikkeli konferenssijulkaisussaJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Application of accelerators in research and industry: Twenty-Second International Conference
Kustantaja
Sivut
190-194
ISSN
ISBN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka
Avainsanat
[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdysvallat (USA)
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1063/1.4802317
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä