undefined

Low temperature atomic layer deposition of noble metals using ozone and molecular hydrogen as reactants

Julkaisuvuosi

2013

Tekijät

Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku

Organisaatiot ja tekijät

Helsingin yliopisto

Puukilainen Esa

Hämäläinen Jani

Leskelä Markku

Ritala Mikko

Jyväskylän yliopisto

Sajavaara Timo Orcid -palvelun logo

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Emojulkaisun nimi

Thin Solid Films

Kustantaja

Elsevier

Volyymi

531

Sivut

243-250

Julkaisu­foorumi

68419

Julkaisufoorumitaso

2

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Ei

Rinnakkaistallennettu

Ei

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka; Kemia

Avainsanat

[object Object],[object Object]

Julkaisumaa

Sveitsi

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Ei

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1016/j.tsf.2013.01.091

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä