Atomic Layer Deposition of LiF Thin Films from Lithd, Mg(thd)(2), and TiF4 Precursors
Julkaisuvuosi
2013
Tekijät
Mäntymäki, Miia; Hämäläinen, Jani; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Jyväskylän yliopisto
Sajavaara Timo 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Emojulkaisun nimi
Kustantaja
Volyymi
25
Numero
9
Sivut
1656-1663
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
3
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia; Kone- ja valmistustekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdysvallat (USA)
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1021/cm400046w
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä