Unifying Concepts for Ion-Induced Leakage Current Degradation in Silicon Carbide Schottky Power Diodes
Julkaisuvuosi
2020
Tekijät
Johnson, R. A.; Witulski, A. F.; Ball, D. R.; Galloway, K. F.; Sternberg, A. L.; Reed, R. A.; Schrimpf, R. D.; Alles, J. M.; Lauenstein, J. M.; Javanainen, A.; Raman, A.; Chakraborty, P. S.; Arslanbekov, R. R.
Abstrakti:
The onset of ion-induced reverse leakage current in SiC Schottky diodes is shown to depend on material properties, ion LET, and bias during irradiation, but not the voltage rating of the parts. This is demonstrated experimentally for devices from multiple manufacturers with voltage ratings from 600 V to 1700 V. Using a device with a higher breakdown voltage than required in the application does not provide increased robustness related to leakage current degradation, compared to using a device with a lower voltage rating.
Näytä enemmänOrganisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Kustantaja
Volyymi
67
Numero
1
Sivut
135-139
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdysvallat (USA)
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1109/TNS.2019.2947866
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä