Thermal and plasma enhanced atomic layer deposition of SiO2 using commercial silicon precursors
Julkaisuvuosi
2014
Tekijät
Putkonen, Matti; Bosund, Markus; Ylivaara, Oili M E; L.Puurunen, Riikka; Kilpi, Lauri; Ronkainen, Helena; Sintonen, Sakari; Ali, Saima; Lipsanen, Harri K.; Liu, Xuwen; Haimi, Eero; Hannula, Simo Pekka; Sajavaara, Timo; Buchanan, Iain; Karwacki, Eugene J.; Vähä-Nissi, Mika
Näytä enemmänOrganisaatiot ja tekijät
Jyväskylän yliopisto
Sajavaara Timo 
Aalto-yliopisto
Haimi Eero
Lipsanen Harri
Putkonen Matti
Ylivaara Oili
Puurunen Riikka
Ali Saima
Sintonen Sakari
Hannula Simo-Pekka
Liu Xuwen
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Kustantaja
Volyymi
558
Numero
May
Sivut
93-98
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka; Materiaalitekniikka; Nanoteknologia; Lääketieteen bioteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Alankomaat
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Kyllä
DOI
10.1016/j.tsf.2014.02.087
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä