Atomic layer deposition of Ru films from bis(2,5-dimethylpyrrolyl)ruthenium and oxygen
Julkaisuvuosi
2012
Tekijät
Kukli, Kaupo; Aarik, Jaan; Aidla, Aleks; Jogi, Indrek; Arroval, Tonis; Lu, Jun; Sajavaara, Timo; Laitinen, Mikko; Kiisler, Alma-Asta; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku; Peck, John; Natwora, Jim; Geary, Joan; Spohn, Ronald; Meiere, Scott; Thompson, David M.
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Kustantaja
Volyymi
520
Numero
7
Sivut
2756-2763
ISSN
Julkaisufoorumi
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia
Avainsanat
[object Object]
Julkaisumaa
Sveitsi
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.tsf.2011.11.088
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä