Iridium metal and iridium oxide thin films grown by atomic layer deposition at low temperatures
Julkaisuvuosi
2011
Tekijät
Hämäläinen, Jani; Hatanpää, Timo Tapio; Puukilainen, Esa; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Jyväskylän yliopisto
Sajavaara Timo 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Volyymi
21
Numero
41
Sivut
16488-16493
ISSN
Julkaisufoorumi
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia
Avainsanat
[object Object]
Julkaisumaa
Yhdistynyt kuningaskunta
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1039/C1JM12245B
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä