Reaction mechanism studies on atomic layer deposition processes
Julkaisuvuosi
2024
Tekijät
Nieminen, Heta-Elisa
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Nieminen Heta-Elisa
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Erillisteos
Yleisö
Tieteellinen
OKM:n julkaisutyyppiluokitus
G5 Artikkeliväitöskirja
Julkaisukanavan tiedot
Lehti
Dissertationes Universitatis Helsingiensis
Emojulkaisun nimi
Kustantaja
Helsingin yliopisto
Numero
35/2024
ISSN
ISBN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Julkaisumaa
Suomi
Kustantajan kansainvälisyys
Kotimainen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä