Electromigration Reliability of Cu3Sn Microbumps for 3D Heterogeneous Integration

Electromigration Reliability of Cu<sub>3</sub>Sn Microbumps for 3D Heterogeneous Integration

Julkaisuvuosi

2024

Tekijät

Tiwary, Nikhilendu; Grosse, Christian; Kögel, Michael; Windemuth, Thilo; Ross, Glenn; Vuorinen, Vesa; Brand, Sebastian; Paulasto-Kröckel, Mervi

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Ross Glenn Orcid -palvelun logo

Paulasto-Kröckel Mervi Orcid -palvelun logo

Tiwary Nikhilendu Orcid -palvelun logo

Windemuth Thilo

Vuorinen Vesa Orcid -palvelun logo

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Konferenssi

Artikkelin tyyppi

Muu artikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Ei

Rinnakkaistallennettu

Kyllä

Muut tiedot

Tieteenalat

Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1109/ESTC60143.2024.10712054

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä

Electromigration Reliability of Cu<sub>3</sub>Sn Microbumps for 3D Heterogeneous Integration - Tiedejatutkimus.fi