1D Crystallographic Etching of Few-Layer WS<sub>2</sub>
Julkaisuvuosi
2024
Tekijät
Li, Shisheng; Lin, Yung Chang; Chiew, Yiling; Dai, Yunyun; Ning, Zixuan; Zhang, Yaming; Nakajima, Hideaki; Lim, Hong En; Wu, Jing; Neitoh, Yasuhisa; Okazaki, Toshiya; Sun, Yang; Sun, Zhipei; Suenaga, Kazu; Sakuma, Yoshiki; Tsukagoshi, Kazuhito; Taniguchi, Takaaki
Näytä enemmänOrganisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Volyymi
34
Numero
46
Artikkelinumero
2405665
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
3
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1002/adfm.202405665
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä