Influence of selected methodology on derived rise time of partial discharge calibrators
Julkaisuvuosi
2024
Tekijät
Klüss, Joni; Meisner, Johann; Havunen, Jussi; Yan, Wei; Hällström, Jari
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A4 Artikkeli konferenssijulkaisussaJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
2024 IEEE International Conference on High Voltage Engineering and Applications (ICHVE)
Konferenssi
2024 IEEE International Conference on High Voltage Engineering and Applications, ICHVE 2024
ISSN
ISBN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1109/ICHVE61955.2024.10676201
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä