Inverse-Designed 3D Laser Nanoprinted Phase Masks to Extend the Depth of Field of Imaging Systems
Julkaisuvuosi
2024
Tekijät
Sturges, Thomas Jebb; Nyman, Markus; Kalt, Sebastian; Pälsi, Kauri; Hilden, Panu; Wegener, Martin; Rockstuhl, Carsten; Shevchenko, Andriy
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Kustantaja
Volyymi
11
Numero
9
Sivut
3765-3773
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1021/acsphotonics.4c00953
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä