Plasma-enhanced chemical vapor deposition of carbon nanofibers: correlations between process parameters and physicochemical properties
Julkaisuvuosi
2024
Tekijät
Pande, Ishan
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Pande Ishan 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Erillisteos
Yleisö
Tieteellinen
OKM:n julkaisutyyppiluokitus
G5 Artikkeliväitöskirja
Julkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Aalto University
ISBN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kotimainen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä