Atomic Layer Deposition of ScF<sub>3</sub> and Sc<sub>x</sub>Al <sub>y</sub>F<sub>z</sub> Thin Films
Julkaisuvuosi
2024
Tekijät
Atosuo, Elisa; Heikkilä, Mikko; Majlund, Johanna; Pesonen, Leevi; Mäntymäki, Miia; Mizohata, Kenichiro; Leskelä, Markku; Ritala, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Atosuo Elisa
Majlund Johanna
Mizohata Kenichiro
Pesonen Leevi
Leskelä Markku
Mäntymäki Miia
Heikkilä Mikko
Ritala Mikko
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Ei
Avoimen saatavuuden kirjoittajamaksu €
1792
Avoimen saatavuuden kirjoittajamaksun vuosi
2024
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Julkaisumaa
Yhdysvallat (USA)
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1021/acsomega.3c09147
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä