Area-Selective Atomic Layer Deposition and Area-Selective Etching for Self-aligned Patterning
Julkaisuvuosi
2023
Tekijät
Zhang, Chao
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Zhang Chao
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Erillisteos
Yleisö
Tieteellinen
OKM:n julkaisutyyppiluokitus
G5 Artikkeliväitöskirja
Julkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Helsingin yliopisto
ISBN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka; Teknillinen kemia, kemian prosessitekniikka; Materiaalitekniikka; Nanoteknologia
Julkaisumaa
Suomi
Kustantajan kansainvälisyys
Kotimainen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä