Block Copolymer Approach toward Selective Atomic-Layer Deposition of ZnO Films

Block Copolymer Approach toward Selective Atomic-Layer Deposition of ZnO Films

Julkaisuvuosi

2023

Tekijät

Philip, Anish; Dong, Yujiao; Vapaavuori, Jaana; Karppinen, Maarit

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Philip Anish Orcid -palvelun logo

Vapaavuori Jaana Orcid -palvelun logo

Karppinen Maarit Orcid -palvelun logo

Dong Yujiao Orcid -palvelun logo

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Kustantaja

Wiley

Volyymi

26

Numero

4

Artikkelinumero

2300937

Julkaisu­foorumi

50431

Julkaisufoorumitaso

1

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Kyllä

Julkaisukanavan avoin saatavuus

Osittain avoin julkaisukanava

Rinnakkaistallennettu

Kyllä

Muut tiedot

Tieteenalat

Materiaalitekniikka

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Ei

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

DOI

10.1002/adem.202300937

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä

Block Copolymer Approach toward Selective Atomic-Layer Deposition of ZnO Films - Tiedejatutkimus.fi