Molecular layer deposition of hybrid silphenylene-based dielectric film
Julkaisuvuosi
2023
Tekijät
Li, Xinzhi; Vehkamäki, Marko; Chundak, Mykhailo; Mizohata, Kenichiro; Vihervaara, Anton; Putkonen, Matti; Leskelä, Markku; Ritala, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Vihervaara Anton
Mizohata Kenichiro
Leskelä Markku
Vehkamäki Marko
Putkonen Matti
Ritala Mikko
Chundak Mykhailo
Li Xinzhi
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Volyymi
6
Numero
5
Artikkelinumero
183
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Kustantajan version lisenssi
CC BY
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Rinnakkaistallenteen lisenssi
CC BY
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Sveitsi
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1007/s42114-023-00756-8
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä