Atomic layer deposition of CoF<sub>2</sub>, NiF<sub>2</sub> and HoF<sub>3</sub> thin films
Julkaisuvuosi
2023
Tekijät
Atosuo, Elisa; Mäntymäki, Miia; Pesonen, Leevi; Mizohata, Kenichiro; Hatanpää, Timo; Leskelä, Markku; Ritala, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Atosuo Elisa
Mizohata Kenichiro
Pesonen Leevi
Leskelä Markku
Mäntymäki Miia
Ritala Mikko
Hatanpää Timo
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Emojulkaisun nimi
Volyymi
52
Numero
31
Sivut
10844-10854
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Kustantajan version lisenssi
CC BY
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Rinnakkaistallenteen lisenssi
CC BY
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia
Avainsanat
[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdistynyt kuningaskunta
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1039/d3dt01717f
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä