(oral talk) Low Temperature Plasma-enhanced ALD for SiO<sub>2</sub> Using CO<sub>2</sub>
Julkaisuvuosi
2019
Tekijät
Zhu, Zhen; Sippola, Perttu; Modanese, Chiara; Ylivaara, Oili; Merdes, Saoussen; Mizohata, Kenichiro; Salmi, Emma; Di Sabatino, Marisa; Savin, Hele
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Abstrakti
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Yleisö
Tieteellinen
Julkaisukanavan tiedot
Konferenssi
International Conference on ALD Applications & China ALD Conference
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kotimainen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Kyllä
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei