Advanced deposition tools for the development of oxide thin films

Julkaisuvuosi

2023

Tekijät

Tossi, Camilla; Laouadi, Ornella; Raju, Ramesh; Tittonen, Ilkka; Singh, Aadesh P.

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Singh Aadesh

Tossi Camilla

Tittonen Ilkka

Laouadi Ornella

Raju Ramesh

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Kokoomateos

Artikkelin tyyppi

Muu artikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A3 Kirjan tai muun kokoomateoksen osa

Julkaisukanavan tiedot

Sivut

135-164

ISBN

978-0-323-90907-5

Julkaisufoorumi

6192

Julkaisufoorumitaso

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Rinnakkaistallennettu

Muut tiedot

Tieteenalat

Materiaalitekniikka; Nanoteknologia

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

DOI

10.1016/B978-0-323-90907-5.00023-3

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä