Penetration of corrosive species into copper exposed to simulated O<sub>2</sub>-free groundwater by time-of-flight secondary ion mass spectrometry (ToF-SIMS)
Julkaisuvuosi
2023
Tekijät
Yue, Xiaoqi; Malmberg, Per; Isotahdon, Elisa; Ratia-Hanby, Vilma; Huttunen-Saarivirta, Elina; Leygraf, Christofer; Pan, Jinshan
Tiivistelmä
ToF-SIMS analysis of copper samples after exposures to simulated groundwater with and without sulfide addition was performed to investigate the penetration of corrosive species containing H, S, O, and Cl, into copper. Depth profiles show extent of penetration and 2D/3D images reveal local elemental distribution of the corrosive species at different depths inside copper. Pre-oxidation did not reduce the penetration while sulfide additional in groundwater and exposure at 60 °C significantly promoted the penetration. The extent of penetration of the corrosive species into copper demonstrates the need for risk assessment of complex corrosion forms such as sulfide-induced embrittlement and cracking.
Näytä enemmänOrganisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Volyymi
210
Numero
Part 2
Artikkelinumero
110833
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
3
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Kustantajan version lisenssi
CC BY
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Kone- ja valmistustekniikka; Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.corsci.2022.110833
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä