Metal fluoride thin films deposited by atomic layer epitaxy

Metal fluoride thin films deposited by atomic layer epitaxy

Julkaisuvuosi

1993

Tekijät

Ylilammi, Markku; Ranta-aho, Timo

Organisaatiot ja tekijät

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Abstrakti

Emojulkaisun tyyppi

Konferenssi

Yleisö

Tieteellinen

Julkaisukanavan tiedot

Konferenssi

9th International Conference on Thin Films, ICTF9

Kustantaja

Austrian Vacuum Society

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Ei tietoa

Rinnakkaistallennettu

Ei

Muut tiedot

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Ei

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Ei