Perspectives on Black Silicon in Semiconductor Manufacturing: Experimental Comparison of Plasma Etching, MACE and Fs-Laser Etching
Julkaisuvuosi
2022
Tekijät
Liu, Xiaolong; Radfar, Behrad; Chen, Kexun; Setälä, Olli; Pasanen, Toni; Yli-Koski, Marko; Savin, Hele; Vähänissi, Ville
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Radfar Behrad 
Savin Hele
Chen Kexun
Yli-Koski Marko
Setälä Olli
Pasanen Toni
Vähänissi Ville
Liu Xiaolong
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Volyymi
35
Numero
3
Sivut
504-510
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Osittain avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Materiaalitekniikka
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1109/TSM.2022.3190630
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä