Diffusion of silicon in ion implanted GaAs
Julkaisuvuosi
1998
Tekijät
Likonen, Jari; Ahlgren, T.; Slotte, J.; Räisänen, Jyrki; Keinonen, J.
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Likonen Jari
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
Ei-vertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
B3 Vertaisarvioimaton artikkeli konferenssijulkaisussaJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Konferenssi
11th International Conference on Secondary Ion Mass Spectrometry, SIMS XI
Kustantaja
Wiley
Sivut
397-400
ISBN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei