Development and characterization of resist for low temperature nanoimprint lithography
Julkaisuvuosi
2002
Tekijät
Reuther, F.; Fink, M.; Grueztner, G.; Pfeiffer, K.; Seekamp, J.; Zankovych, S.; Sotomayor Torres, C.M.; Scheer, H.C.; Schultz, H.; Montelius, L.; Mayer, C.; Cardinaud, C.; Ahopelto, Jouni
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Ahopelto Jouni
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Abstrakti
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Yleisö
Tieteellinen
Julkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Konferenssi
1st International Conference on Nanoimprint and Nanoprint Technology, NNT'02
Kustantaja
Naval Research Laboratory
Sivut
156-157
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei