Through-wafer polysilicon interconnect fabrication with in-situ boron doping
Julkaisuvuosi
2005
Tekijät
Luusua, Ismo; Henttinen, Kimmo; Pekko, Panu; Vehmas, Tapani; Luoto, Hannu
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A4 Artikkeli konferenssijulkaisussaJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Symposium J - Micro- and Nanosystems - Materials and Devices
Kustantaja
Volyymi
872
Artikkelinumero
J5.5
Sivut
77-81
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1557/PROC-872-J5.5
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei