Direct wafer bonding of atomic layer deposited TiO<sub>2</sub> and Al <sub>2</sub>O<sub>3</sub> thin films
Julkaisuvuosi
2011
Tekijät
Puurunen, R. L.; Suni, T.; Ylivaara, O.; Kondo, H.; Ammar, M.; Ishida, T.; Fujita, H.; Bosseboeuf, A.; Zaima, S.; Kattelus, H.
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A4 Artikkeli konferenssijulkaisussaJulkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
2011 16th International Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems Conference, TRANSDUCERS'11
Konferenssi
16th International Conference on Solid-State Sensors, Actuators and Microsystems, Transducers’11<br/>
Artikkelinumero
5969474
Sivut
978-981
ISBN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1109/TRANSDUCERS.2011.5969474
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä