Study on Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub> film in anhydrous HF vapor
Julkaisuvuosi
2012
Tekijät
Ritala, Heini; Tuohiniemi, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Artikkelin tyyppi
Muu artikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A4 Artikkeli konferenssijulkaisussaJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Konferenssi
10th International Symposium on Ultra Clean Processing of Semiconductor Surfaces, UCPSS 2010
Sivut
45-48
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.4028/www.scientific.net/SSP.187.45
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä