On the early history of atomic layer deposition: most significant works and applications
Julkaisuvuosi
2016
Tekijät
Aarik, Jaan; Ahvenniemi, Esko; Akbashev, Andrew R.; Ali, Saima; Bechelany, Mikhael; Berdova, Maria; Cameron, David; Chekurov, Nikolai; Chubarov, Mikhail; Drozd, Viktor; Elliott, Simon; Gottardi, Gloria; Grigoras, Kestutis; Hwang, Cheol Seong; Junige, Marcel; Kallio, Tanja; Kanervo, Jaana; Khmelnitskiy, Ivan; Koshtyal, Yury; Krause, Outi; Kääriäinen, Marja-Leena; Kääriäinen, Tommi; Lamagna, Luca; Lipsanen, Harri; Lyytinen, Jussi; Malkov, Anatoly; Malygin, Anatoly; Molarius, Jyrki; Norek, Malgorzata; Ozgit-Akgun, Cagla; Panov, Mikhail; Pedersen, Henrik; Piallat, Fabien; Popov, Georgi; Puurunen, Riikka L.; Pyymaki-Perros, Alexander; Ras, Robin H. A.; Roozeboom, Fred; Sajavaara, Timo; Savin, Hele; Seidel, Thomas E.; Sundberg, Pia; Sundqvist, Jonas; Suyatin, Dmitry; Tallarida, Massimo; Törndahl, Tobias; Utriainen, Mikko; van Ommen, J. Ruud; Wächtler, Thomas; Wiemer, Claudia; Ylivaara, Oili M. E.; Yurkevich, Oksana
Näytä enemmänOrganisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Molarius Jyrki
Grigoras Kestutis
Utriainen Mikko 
Ylivaara Oili M. E.
Puurunen Riikka L.
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Posteri
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Yleisö
Tieteellinen
Julkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
16th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2016
Konferenssi
16th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2016
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kemia; Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Kyllä
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei