Residual stress in thin films made by atomic layer deposition
Julkaisuvuosi
2016
Tekijät
Ylivaara, Oili; Puurunen, Riikka
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Posteri
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Yleisö
Tieteellinen
Julkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Konferenssi
HERALD WG2 Workshop & 4th Annual Seminar of Finnish Center of Excellence in Atomic Layer Deposition (ALDCoE)
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka; Materiaalitekniikka
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei