Atomic Layer Deposition of Insulating AlF3/Polyimide Nanolaminate Films
Julkaisuvuosi
2021
Tekijät
Li, Xinzhi; Vehkamaki, Marko; Heikkila, Mikko; Mattinen, Miika; Putkonen, Matti; Leskela, Markku; Ritala, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Leskela Markku
Vehkamaki Marko
Putkonen Matti
Mattinen Miika
Heikkila Mikko
Ritala Mikko
Li Xinzhi
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Rinnakkaistallenteen lisenssi
CC BY
Muut tiedot
Tieteenalat
Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Sveitsi
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.3390/coatings11030355
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä