Atomic Layer Deposition of Insulating AlF3/Polyimide Nanolaminate Films
Julkaisuvuosi
2021
Tekijät
Li, Xinzhi; Vehkamaki, Marko; Heikkila, Mikko; Mattinen, Miika; Putkonen, Matti; Leskela, Markku; Ritala, Mikko
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Leskela Markku
Vehkamaki Marko
Putkonen Matti
Mattinen Miika
Heikkila Mikko
Ritala Mikko
Li Xinzhi
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Rinnakkaistallenteen lisenssi
CC BY
Muut tiedot
Tieteenalat
Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Sveitsi
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.3390/coatings11030355
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä