Dopant Concentration Analysis of ALD Thin Films in 3D Structures by ToF-SIMS
Julkaisuvuosi
2019
Tekijät
Kia, Alireza M.; Weinreich, Wenke; Utriainen, Mikko; Puurunen, Riikka L.; Haufe, Nora
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Abstrakti
Emojulkaisun tyyppi
Konferenssi
Yleisö
Tieteellinen
Julkaisukanavan tiedot
Emojulkaisun nimi
Konferenssi
19th International Conference on Atomic Layer Deposition, ALD 2019
Kustantaja
American Vacuum Society (AVS)
Sivut
61-61
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka
Avainsanat
[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei