Thermal gas-phase etching of titanium nitride (TiN) by thionyl chloride (SOCl2)

< Takaisin hakutuloksiin

Thermal gas-phase etching of titanium nitride (TiN) by thionyl chloride (SOCl2)

Julkaisuvuosi

2021

Tekijät

Sharma, Varun; Blomberg, Tom; Haukka, Suvi; Cembella, Shaun; Givens, Michael E.; Tuominen, Marko; Odedra, Rajesh; Graff, Wes; Ritala, Mikko

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1

Julkaisukanavan tiedot

Emojulkaisun nimi

Applied Surface Science

Emojulkaisun toimittajat

Konferenssi

Kustantaja

Volyymi

540

Numero

Sivut

ISBN

Julkaisu­foorumi

51536

Julkaisufoorumitaso

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka; Kemia

Avoin saatavuus

Kyllä

Julkaisumaa

Alankomaat

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

true

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

true

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]