Silicon oxide-niobium oxide mixture films and nanolaminates grown by atomic layer deposition from niobium pentaethoxide and hexakis(ethylamino) disilane
Julkaisuvuosi
2020
Tekijät
Kukli, Kaupo; Kemell, Marianna; Heikkilä, Mikko J.; Castan, Helena; Duenas, Salvador; Mizohata, Kenichiro; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Helsingin yliopisto
Kukli Kaupo
Mizohata Kenichiro
Kemell Marianna
Leskelä Markku
Ritala Mikko
Heikkilä Mikko J.
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Emojulkaisun nimi
Volyymi
31
Numero
19
Artikkelinumero
195713
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Kemia; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Julkaisumaa
Yhdistynyt kuningaskunta
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1088/1361-6528/ab6fd6
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä