AlOx surface passivation of black silicon by spatial ALD: Stability under light soaking and damp heat exposure
Julkaisuvuosi
2020
Tekijät
Heikkinen, Ismo T. S.; Koutsourakis, George; Virtanen, Sauli; Yli-Koski, Marko; Wood, Sebastian; Vähänissi, Ville; Salmi, Emma; Castro, Fernando A.; Savin, Hele
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti/Sarja
Kustantaja
Volyymi
38
Numero
2
Artikkelinumero
022401
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Tieteenalat
Sähkö-, automaatio- ja tietoliikennetekniikka, elektroniikka
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Kyllä
DOI
10.1116/1.5133896
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä