Annealing behaviour of high-dose-implanted nitrogen in InP
Julkaisuvuosi
1996
Tekijät
Likonen, Jari; Väkeväinen, K.; Ahlgren, T.; Räisänen, Jyrki; Rauhala, Esko; Keinonen, J.
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Likonen Jari 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Volyymi
62
Numero
5
Sivut
463-468
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1007%2FBF01567118
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei