Reactive phase formation in thin film metal/metal and metal/silicon diffusion couples
Julkaisuvuosi
2003
Tekijät
Laurila, Tomi; Molarius, Jyrki
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Molarius Jyrki
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli:
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Volyymi
28
Numero
3
Sivut
185-230
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Materiaalitekniikka
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1080/10408430390261955
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei