Fluorescence microscopy for quality control in nanoimprint lithography
Julkaisuvuosi
2003
Tekijät
Finder, Ch.; Zankovych, S.; Maximov, I; Reuther, F.; Sarwe, E.L.; Seekamp, J.; Pfeiffer, K.; Carlberg, P.; Beck, M.; Ahopelto, Jouni; Sotomayor Torres, C.M.; Montelius, L.; Mayer, C.
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Ahopelto Jouni
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Volyymi
67-68
Sivut
623-628
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/S0167-9317(03)00123-0
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei