Fluorescence microscopy for quality control in nanoimprint lithography

Julkaisuvuosi

2003

Tekijät

Finder, Ch.; Beck, M.; Seekamp, J.; Pfeiffer, K.; Carlberg, P.; Maximov, I.; Reuther, F.; Zankovych, S.; Sarwe, E.L.; Ahopelto, Jouni; Montelius, L.; Mayer, C.; Sotomayor Torres, C.M.

Organisaatiot ja tekijät

Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy

Ahopelto Jouni

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Lehti

Artikkelin tyyppi

Alkuperäisartikkeli:

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessä

Julkaisukanavan tiedot

Lehti/Sarja

Microelectronic Engineering

Konferenssi

28th International Conference on Micro- and Nano-Engineering

Volyymi

67-68

Sivut

623-628

ISSN

0167-9317

Julkaisufoorumi

63335

Julkaisufoorumitaso

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Rinnakkaistallennettu

Muut tiedot

Tieteenalat

Materiaalitekniikka

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Kyllä

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa