Deep plasma etching of glass with a silicon shadow mask
Julkaisuvuosi
2008
Tekijät
Kolari, Kai
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Kolari Kai
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Volyymi
141
Numero
2
Sivut
677-684
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
2
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.sna.2007.09.005
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei