Etching of Sacrificial CVD Silicon Dioxide with Anhydrous HF Vapor
Julkaisuvuosi
2009
Tekijät
Ritala, Heini; Kiihamäki, Jyrki
Organisaatiot ja tekijät
Teknologian tutkimuskeskus VTT Oy
Kiihamäki Jyrki 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Volyymi
25
Numero
5
Sivut
351-358
ISSN
Julkaisufoorumi
Julkaisufoorumitaso
1
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1149/1.3202673
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Ei