Defect-induced nucleation and growth of amorphous silicon
Julkaisuvuosi
1996
Tekijät
Lewis, L.; Nieminen, R.M.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Nieminen Risto
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Physical Review B
Kustantaja
American Physical Society
Volyymi
54
Numero
3
Sivut
1459-1462
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1103/PhysRevB.54.1459
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä