White beam synchrotron x-ray topography studies of copper interconnect inducec strain in Si ic processing
Julkaisuvuosi
2002
Tekijät
Kanatharana, J.; McNally, P.J.; Tuomi, T.; Toh, B.H.W.; McNeill, D.; Chen, W.M.; Riikonen, J.; Knuuttila, L.; Pérez-Camacho, J.J.
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Erillisteos
Yleisö
Ammatillinen
OKM:n julkaisutyyppiluokitus
D4 Julkaistu kehittämis- tai tutkimusraportti taikka -selvitys
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä