Silicon surface passivation with atomic layer deposited aluminum nitride

Julkaisuvuosi

2016

Tekijät

Repo, Päivikki; Bao, Yameng; Seppänen, Heli; Sippola, Perttu; Savin, Hele

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Savin Hele

Seppänen Heli

Sippola Perttu

Repo Päivikki

Bao Yameng

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Konferenssi

Artikkelin tyyppi

Muu artikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

Julkaisukanavan tiedot

Artikkelinumero

7750205

Sivut

2967-2970

ISBN

978-1-5090-2724-8

Julkaisufoorumi

54011

Julkaisufoorumitaso

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Rinnakkaistallennettu

Muut tiedot

Tieteenalat

Fysiikka

Avainsanat

[object Object],[object Object],[object Object]

Kustantajan kansainvälisyys

Kansainvälinen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

DOI

10.1109/PVSC.2016.7750205

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä