Controlled growth of HfO2 thin films by atomic layer deposition from cyclopentadienyl-type precursor and water
Julkaisuvuosi
2005
Tekijät
Niinistö, Jaakko; Putkonen, Matti; Niinistö, Lauri; Stoll, Sarah; Kukli, Kaupo; Sajavaara, Timo; Ritala, Mikko; Leskelä, Markku
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Journal of Materials Chemistry
Kustantaja
Royal Society of Chemistry
Volyymi
15
Sivut
2271-2275
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä