Implantation Defects and n-type Doping in Ge and Ge rich SiGe
Julkaisuvuosi
2008
Tekijät
Peaker, A.R.; Markevich, V.P.; Hamilton, B.; Hawkins, I.D.; Slotte, J.; Kuitunen, K.; Tuomisto, F.; Satta, A.; Simoen, E.; Abrosimov, N.
Organisaatiot ja tekijät
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Thin Solid Films
Kustantaja
Elsevier
Volyymi
517
Numero
1
Sivut
152-154
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Tieteenalat
Fysiikka; Kone- ja valmistustekniikka; Ympäristötekniikka; Nanoteknologia
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Kyllä
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1016/j.tsf.2008.08.088
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä