Mask material effects in cryogenic deep reactive ion etching
Julkaisuvuosi
2007
Tekijät
Franssila, Sami; Sainiemi, Lauri
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Franssila Sami 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
Journal of Vacuum Science and Technology. Part B. Microelectronics and Nanometer Structures
Kustantaja
AVS Science and Technology Society
Volyymi
25
Numero
3
Sivut
801-807
ISSN
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1116/1.2734157
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä