Surface morphology during anisotropic wet chemical etching of crystalline silicon
Julkaisuvuosi
2003
Tekijät
Gosalvez, M.A.; Nieminen, R.M.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Nieminen Risto
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Artikkeli
Emojulkaisun tyyppi
Lehti
Artikkelin tyyppi
Alkuperäisartikkeli
Yleisö
TieteellinenVertaisarvioitu
VertaisarvioituOKM:n julkaisutyyppiluokitus
A1 Alkuperäisartikkeli tieteellisessä aikakauslehdessäJulkaisukanavan tiedot
Lehti
New Journal of Physics
Kustantaja
Institute of Physics Publishing
Volyymi
5
Sivut
1-28
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Kyllä
Julkaisukanavan avoin saatavuus
Kokonaan avoin julkaisukanava
Rinnakkaistallennettu
Kyllä
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kansainvälinen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
DOI
10.1088/1367-2630/5/1/400
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä