< Takaisin hakutuloksiin

Strontium Titanate Thin Films via Atomic Layer Deposition Using Strontium Tetramethylheptanedione and Titanium Isopropoxide as Precursors

Julkaisuvuosi

1999

Tekijät

Kosola, A.; Putkonen, M.; Niinistö, L.

Organisaatiot ja tekijät

Aalto-yliopisto

Julkaisutyyppi

Julkaisumuoto

Artikkeli

Emojulkaisun tyyppi

Konferenssi

Artikkelin tyyppi

Muu artikkeli

Yleisö

Tieteellinen

Vertaisarvioitu

Vertaisarvioitu

OKM:n julkaisutyyppiluokitus

A4 Artikkeli konferenssijulkaisussa

Julkaisukanavan tiedot

Emojulkaisun nimi

CERC3 Young Chemists Workshop, Chemical Preparation of Thin Films, Heterogeneous Catalysts and Related Surface Structures, Tuusula, May 20-23,1999

Sivut

25

Avoin saatavuus

Avoin saatavuus kustantajan palvelussa

Ei

Rinnakkaistallennettu

Ei

Muut tiedot

Avainsanat

atomic layer deposition; Strontium titanate; Thin film

Kustantajan kansainvälisyys

Kotimainen

Kieli

englanti

Kansainvälinen yhteisjulkaisu

Ei

Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa

Ei

Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen

Kyllä