Tantalum-based diffusion barriers for copper metallization
Julkaisuvuosi
1999
Tekijät
Laurila, T.; Zeng, K.; Kivilahti, J.
Organisaatiot ja tekijät
Aalto-yliopisto
Laurila Tomi 
Julkaisutyyppi
Julkaisumuoto
Erillisteos
Yleisö
Ammatillinen
OKM:n julkaisutyyppiluokitus
D4 Julkaistu kehittämis- tai tutkimusraportti taikka -selvitys
Julkaisukanavan tiedot
Kustantaja
Teknillinen korkeakoulu
Avoin saatavuus
Avoin saatavuus kustantajan palvelussa
Ei
Rinnakkaistallennettu
Ei
Muut tiedot
Avainsanat
[object Object],[object Object],[object Object],[object Object]
Kustantajan kansainvälisyys
Kotimainen
Kieli
englanti
Kansainvälinen yhteisjulkaisu
Ei
Yhteisjulkaisu yrityksen kanssa
Ei
Julkaisu kuuluu opetus- ja kulttuuriministeriön tiedonkeruuseen
Kyllä